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沈陽東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
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采用連續(xù)式硫化法的情況下，不會有因切去加壓成形產(chǎn)生的毛邊或一般的擠壓處理和在硫化處理槽內(nèi)進(jìn)行處理時橡膠管兩端翹起的部分而導(dǎo)致的橡膠浪費(fèi)，另外能夠縮短制造時間和減少人工費(fèi)用，因此能夠降低輥筒的制造成本，撫順2N金靶材，從這些方面考慮，此方法優(yōu)于間歇式硫化法。
此外，硫化處理后，由于對每個輥筒都進(jìn)行了剪切，所以基本上不會出現(xiàn)上述差別，這樣就可緩解長度方向的電阻值的不均勻。
而未米的0.18um}藝甚至0.13m工藝，所需要的靶材純度將要求達(dá)到5甚至6N以上。銅與鋁相比較，銅具有更高的抗電遷移能力及更低的電阻率，能夠滿足！導(dǎo)體工藝在0.25um以下的亞微米布線的需要但卻帶米了其他的問題：銅與有機(jī)介質(zhì)材料的附著強(qiáng)度低．并且容易發(fā)生反應(yīng)，導(dǎo)致在使用過程中芯片的銅互連線被腐蝕而斷路。
為了解決以上這些問題，需要在銅與介質(zhì)層之間設(shè)置阻擋層。阻擋層材料一般采用高熔點(diǎn)、高電阻率的金屬及其化合物，因此要求阻擋層厚度小于50nm，與銅及介質(zhì)材料的附著性能良好。銅互連和鋁互連的阻擋層材料是不同的．需要研制新的靶材材料。銅互連的阻擋層用靶材包括Ta、W、TaSi、WSi等．但是Ta、W都是難熔金屬．制作相對困難，如今正在研究鉬、鉻等的臺金作為替代材料。
中國的貴金屬工業(yè)由于較長時期處于國家計(jì)劃經(jīng)濟(jì)體制，哪家有2N金靶材，因此發(fā)展比較緩慢，特別是鉑族金屬起步更是比較晚，2N金靶材價(jià)格，工藝技術(shù)比較落后，哪里有2N金靶材，國內(nèi)資源更是匱乏，直到改革開放以后，以上海黃金的開業(yè)為標(biāo)志，在這三十年里，才得到了迅速的發(fā)展，出現(xiàn)了現(xiàn)貨、紙黃金、紙白銀等等的交易模式，為投資者開打了通往財(cái)富的大門，更多的開辟了就業(yè)渠道，同時鉑族金屬的生產(chǎn)加工企業(yè)和流通領(lǐng)域的企業(yè)也似雨后春筍，蓬勃發(fā)展，使中國成為很大的的鉑族金屬進(jìn)口和消費(fèi)國。
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