




四氟化碳物理性質(zhì) :
熔點(diǎn)-183.6℃,
分子式是CF4,
沸點(diǎn)-128.1℃,
液體密度(-130℃)1.613g/cm3,高純四氟化碳,
液體折光率(-173℃)1.515,
固體轉(zhuǎn)變點(diǎn)72.2K,
臨界溫度-45.67℃,四氟化碳,
臨界壓力3.73MPa,
蒸氣壓(-150.7℃)13.33kPa
介電常數(shù)(25℃,0.5MPa)1.0006
臨界密度:7.1dm3/mol
標(biāo)準(zhǔn)摩爾自由能:-929.84 kJ/mol
標(biāo)準(zhǔn)摩爾生成自由能:-887.41 kJ/mol
危險(xiǎn)性類(lèi)別:第2.2類(lèi)不燃?xì)怏w

隨著芯片制程向7納米邁進(jìn),細(xì)微雜質(zhì)對(duì)芯片的損害更為明顯,電子產(chǎn)業(yè)對(duì)高純電子氣體的純度要求進(jìn)一步提高,四氟化碳公司,在此背景下,我國(guó)高純四氟化碳生產(chǎn)技術(shù)與產(chǎn)品質(zhì)量仍有提升空間。四氟化碳貯存注意事項(xiàng):氣瓶使用和檢驗(yàn)遵照《氣瓶安全監(jiān)察規(guī)程》的規(guī)定。氣瓶?jī)?nèi)的氣體不能全部用盡,應(yīng)該留不小于0.04MPa剩余壓力。我國(guó)人工智能、物聯(lián)網(wǎng)市場(chǎng)仍在不斷擴(kuò)大,光伏發(fā)電累計(jì)裝機(jī)容量不斷上升,預(yù)計(jì)2020-2025年,我國(guó)高純四氟化碳市場(chǎng)需求將繼續(xù)以10.0%以上的增速增長(zhǎng)。

四氟化碳的密度比較高,可以填滿地面空間范圍,在不通風(fēng)的地方會(huì)導(dǎo)致窒息。四氟化碳成品應(yīng)存放在陰涼,干燥,通風(fēng)的庫(kù)房?jī)?nèi),嚴(yán)禁曝曬,遠(yuǎn)離熱源。四氟化碳是可作為氟和自由基氟化碳的來(lái)源,用于各種晶片蝕刻工藝。四氟化碳和氧結(jié)合用以蝕刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量大的等離子蝕刻氣體,其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體,可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的蝕刻。



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