鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。

Plasma 3000 ICP光譜儀具有垂直火炬，雙向觀測，ICP等離子體發(fā)射光譜儀廠家，冷錐消除尾焰，具有更寬的動態(tài)線性范圍和更低的背景。

自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，有效穩(wěn)定，體積小巧，匹配速度快，ICP等離子體發(fā)射光譜儀價格，確保Plasma 3000

ICP光譜儀精度較高運(yùn)行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

高速面陣 CCD 采集技術(shù)，單次曝光獲取全部譜線信息，Plasma 3000 ICP光譜儀真正實現(xiàn)“全譜直讀”。

功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng)，簡化分析方法的開發(fā)過程。應(yīng)用工程師為ICP光譜儀用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。

鋼研納克擬負(fù)責(zé)起草ICP-AES

鋼研納克擬負(fù)責(zé)起草《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》

儀器信息網(wǎng)訊 2014年10月28日，委決定發(fā)布通知對2014年第二批擬立項項目(見附件)公開征求意見。其中提出將制定《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國家推薦標(biāo)準(zhǔn)。主管部門為中國機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會，歸口單位為國工業(yè)過程測量和控制標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)會，起草單位為鋼研納克檢測技術(shù)有限公司，計劃完成時間為2016年。

《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》標(biāo)準(zhǔn)將規(guī)定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀的術(shù)語與縮略語、分類、要求、試驗方法、檢驗規(guī)則、標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存。

據(jù)介紹，制定該標(biāo)準(zhǔn)旨在提升我國ICP光譜儀的生產(chǎn)制造規(guī)范性，ICP等離子體發(fā)射光譜儀廠家，使儀器性能穩(wěn)定;通過規(guī)范生產(chǎn)提高ICP光譜儀生產(chǎn)企業(yè)準(zhǔn)入門檻，形成具有競爭力的企業(yè)。從而縮小國產(chǎn)儀器同國外儀器的性能差距，提高國產(chǎn)ICP光譜儀的市場占有率。對ICP光譜儀產(chǎn)業(yè)發(fā)展具有重要和積極的意義。

項目起草單位鋼研納克檢測技術(shù)有限公司研發(fā)生產(chǎn)電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀始于2006年，2009年10月，鋼研納克開發(fā)了單道掃描型ICP-AES Plasma 1000。2014年，鋼研納克推出了 Plasma2000型全譜電感耦合等離子體光譜儀，采用中階梯光柵光學(xué)結(jié)構(gòu)和科研級CCD檢測器實現(xiàn)全譜采集，該儀器是鋼研納克“國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項”成果。

ICP光譜儀

目前ICP光譜儀主要分為多道型、單道掃描型以及全譜直讀型，其中多道型和單道掃描型代表的是80年代的技術(shù)水平，它們以光電倍增管為檢測器，海南ICP等離子體發(fā)射光譜儀，技術(shù)上非常成熟，但也較落后，其中多道型已幾乎退出歷史舞臺，單道掃描型以其合適的價格和靈活方便仍占有一定的市場份額。全譜直讀型儀器代表了當(dāng)今ICP的新技術(shù)水準(zhǔn)，它以CID或CCD(SCD)半導(dǎo)體器件為檢測器；中階梯光柵結(jié)合棱鏡(或平面光柵)構(gòu)成二維、高分辯率、高能量色散系統(tǒng)，能同時獲得各元素譜線的信息。此類型儀器經(jīng)近十年的不斷完善和發(fā)展，目前已成為ICP光譜儀的主流。