




鋼研納克Plasma 2000 全譜ICP光譜儀參數(shù)
1. 光學(xué)系統(tǒng):中階梯二維分光光學(xué)系統(tǒng),焦距400mm
2. 譜線范圍:165nm~900nm,光學(xué)分辨率:0.007nm(200nm處)
3. 光柵規(guī)格:中階梯光柵,52.67刻線/毫米,尺寸:100mm x 50mm
4. 晶體管固態(tài)射頻發(fā)生器,小巧有效
5. 40.68MHz頻率提高信噪比,改善了檢出限
6. 自動匹配調(diào)節(jié)
7. 全組裝式炬管,降低了維護成本
8. 計算機控制可變速10滾軸四道或兩道蠕動泵,具有快速清洗功能
9. 實驗數(shù)據(jù)穩(wěn)定性良好:重復(fù)性
RSD ≤0.5% (1mg/L) (n=10);穩(wěn)定性:RSD
≤2.0%(大于3小時)

鋼研納克:固態(tài)光源ICP,國產(chǎn)單道掃描ICP進入固態(tài)光源時代
穩(wěn)健的全固態(tài)光源ICP光譜儀 鋼研納克 Plasma 1500
全固態(tài)射頻發(fā)生器,icp光譜儀廠家,體積小、,全自動負(fù)載匹配,速度快、精度高,全固態(tài)光源ICP光譜儀能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及揮發(fā)性的測試,具有優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。
垂直炬管的設(shè)計,具有更好的樣品耐受性,減少了清潔需求,降低了備用炬管的消耗。
簡潔的炬管安裝定位設(shè)計,快速定位,的位置重現(xiàn)。
具有低功率待機模式,待機時降低輸出功率,減小氣體流量,僅維持等離子體運行,節(jié)約使用成本。
實時監(jiān)控儀器運行參數(shù),以太網(wǎng)及CAN工業(yè)現(xiàn)場總線,保障通訊可靠。

鋼研納克ICP光譜儀源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經(jīng)驗,數(shù)十項ICP檢測標(biāo)準(zhǔn)的起草單位,重大科學(xué)儀器專項《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,ICP光譜儀產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)GB/T 36244-2018起草單位,懂ICP應(yīng)用的國產(chǎn)ICP光譜儀制造商。,上市公司,品質(zhì)之選!
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溫馨提示:以上是關(guān)于重慶icp光譜儀廠家-鋼研納克的詳細(xì)介紹,產(chǎn)品由鋼研納克江蘇檢測技術(shù)研究院有限公司為您提供,如果您對鋼研納克江蘇檢測技術(shù)研究院有限公司產(chǎn)品信息感興趣可以聯(lián)系供應(yīng)商或者讓供應(yīng)商主動聯(lián)系您 ,您也可以查看更多與分析儀器相關(guān)的產(chǎn)品!
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