ICP光譜儀

目前ICP光譜儀主要分為多道型、單道掃描型以及全譜直讀型，其中多道型和單道掃描型代表的是80年代的技術水平，它們以光電倍增管為檢測器，技術上非常成熟，但也較落后，其中多道型已幾乎退出歷史舞臺，單道掃描型以其合適的價格和靈活方便仍占有一定的市場份額。全譜直讀型儀器代表了當今ICP的新技術水準，它以CID或CCD(SCD)半導體器件為檢測器；中階梯光柵結(jié)合棱鏡(或平面光柵)構(gòu)成二維、高分辯率、高能量色散系統(tǒng)，能同時獲得各元素譜線的信息。此類型儀器經(jīng)近十年的不斷完善和發(fā)展，目前已成為ICP光譜儀的主流。

鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領域的元素分析。

Plasma 3000 ICP光譜儀具有垂直火炬，雙向觀測，冷錐消除尾焰，具有更寬的動態(tài)線性范圍和更低的背景。

自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，有效穩(wěn)定，體積小巧，匹配速度快，確保Plasma 3000

ICP光譜儀精度較高運行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

高速面陣 CCD 采集技術，單次曝光獲取全部譜線信息，Plasma 3000 ICP光譜儀真正實現(xiàn)“全譜直讀”。

功能強大的軟件系統(tǒng)，簡化分析方法的開發(fā)過程。應用工程師為ICP光譜儀用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。

鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀分光系統(tǒng)

儀器采用徑向觀測與軸向觀測設計，電感耦合等離子體光譜儀廠家，適應亞ppm到高含量的元素測量。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu)，使用CaF2棱鏡，提高光路傳輸效率。

優(yōu)化的光學設計，采用非球面光學元件，改善成像質(zhì)量，提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術，縮短光室充氣時間，提高紫外光譜靈敏度及穩(wěn)定性，開機即可測量。 包圍式立體控溫系統(tǒng)，保障光學系統(tǒng)長期穩(wěn)定無漂移。

光源

固態(tài)射頻發(fā)生器，穩(wěn)定，體積小巧，匹配速度快

冷錐消除尾焰技術，地降低自吸效應和電離干擾，從而獲得更寬的動態(tài)線性范圍和更 低的背景，保證準確的測量結(jié)果。 具有綠色節(jié)能待機模式，待機時降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運行，節(jié)約使用成本。

簡潔的炬管安裝定位設計，快速定位，的位置重現(xiàn)。 實時監(jiān)控儀器運行參數(shù)，CAN工業(yè)現(xiàn)場總線，保障通訊可靠。

進樣系統(tǒng)

簡潔的炬管安裝設計，自動定位炬管位置，的位置重現(xiàn)。

ICP光譜儀使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量，保障測試性能長期穩(wěn)定。 多通道12滾輪蠕動泵，提升樣品導入穩(wěn)定性。

檢測器

大面積背照式CCD檢測器，全譜段響應，高紫外量化效率，抗飽和溢出，具有極寬的動態(tài)范

圍和極快的信號處理速度。 一次曝光，完成全譜光譜信號的采集讀取，從而獲得更為快速、準確的分析結(jié)果。

ICP光譜儀具有同類產(chǎn)品中靶面尺寸，像素，單像素面積24μm X 24μm，三級半導體制冷，制冷溫 度 低，具有更低的噪聲和更好的穩(wěn)定性。

軟件系統(tǒng)

人性化的界面設計，流暢易懂，簡便易用，針對分析應用優(yōu)化的軟件系統(tǒng)，無須復雜的方法開發(fā)， 即可快速開展分析操作。

豐富的譜線庫，智能提示潛在干擾元素，幫助用戶合理選擇分析譜線。 輕松的觀測方式設置，直觀的測試結(jié)果顯示。

安全防護

電磁屏蔽，減少電磁輻射 連鎖門保護，避免用戶誤操作可能帶來的風險 防紫外觀測窗