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x射線發(fā)生裝置-涂層應用
現(xiàn)代生活的每個環(huán)節(jié)都得益于涂層或薄膜技術。無論是集成電路芯片上的阻擋層薄膜還是鋁制飲料罐上的涂層，X射線是研發(fā)，產(chǎn)品過程控制和不可缺少的分析技術。作為納米技術研究，X射線衍射(XRD)和附屬技術被用于確定薄膜分子結構的性質(zhì)。理學的技術和經(jīng)驗為涂層和薄膜測量提供各種無損分析解決方案。
x射線發(fā)生裝置原理
x射線的波長和晶體內(nèi)部原子面之間的間距相近，晶體可以作為X射線的空間衍射光柵，中能x射線發(fā)生裝置價格，即一束X射線照射到物體上時，受到物體中原子的散射，每個原子都產(chǎn)生散射波，這些波互相干涉，結果就產(chǎn)生衍射。衍射波疊加的結果使射線的強度在某些方向上加強，在其他方向上減弱。分析衍射結果，便可獲得晶體結構。
對于晶體材料，當待測晶體與入射束呈不同角度時，那些滿足布拉格衍射的晶面就會被檢測出來，體現(xiàn)在XRD圖譜上就是具有不同的衍射強度的衍射峰。對于非晶體材料，由于其結構不存在晶體結構中原子排列的長程有序，只是在幾個原子范圍內(nèi)存在著短程有序，故非晶體材料的XRD圖譜為一些漫散射饅頭峰。
x射線發(fā)生裝置-地質(zhì)，中能x射線發(fā)生裝置，礦產(chǎn)
在研究行星進程和地球構造過程中，地理學家們需要分析巖石和礦物樣品的組成。X射線衍射儀分析技術如：小點激發(fā)，分布分析和無標定量分析，日漸成為地質(zhì)研究及礦物學研究領域內(nèi)的主要儀器。X射線衍射儀(XRD)可定量測量相組成。X射線衍射數(shù)據(jù)的Rietveld分析被認為是晶體相定量分析適合的方法。技術和經(jīng)驗為這些判定提供了一系列解決方案。
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第6年
