氧氮?dú)浞治鰞x的使用環(huán)境有哪些要求？

載氣：氬氣（氧分析）、氦氣（氧氮分析）或氮?dú)猓浞治觯?，純?9.9999%，氧氣減壓閥YQY-12，0.2~0.3 MPa

動力氣：普通氮?dú)?壓縮空氣，氧氣減壓閥YQY-12，0.2~0.3 MPa

冷卻水：4L/min~6L/min（自來水壓，0.25MPa以上，水質(zhì)好、硬度小，水管可接φ10mm水管，有下水池）或滿足上述條件冷卻循環(huán)水

電源：220V±10%，50Hz（兩組，不同相；一路提供50 A電流，供脈沖加熱爐；另一路外接三孔插座，并準(zhǔn)備計算機(jī)用多組插座一個，電流10A；電源需接地良好）

電流：50A

功率：8000W

接地電阻：

使用濕度：

使用溫度：18℃~29℃

電磁干擾、振動：無高頻電磁場、無強(qiáng)烈震動源

電吹風(fēng)機(jī)：要求配備電吹風(fēng)機(jī)一個，有冷風(fēng)，800W

化學(xué)試劑：無水乙醇（分析純）等

儀器外形尺寸：W×H×D：450×680×550（mm；2個機(jī)箱尺寸相同）

儀器凈重：~150kg

放置儀器臺要求：W×H×D：150cm×75cm×65cm

計算機(jī)通用臺：W×H×D：120cm×75cm×55cm

金剛石微粉由于其硬度高、耐磨性好，可廣泛用于切削、磨削、鉆探等，是研磨拋光硬質(zhì)合金、陶瓷、寶石、光學(xué)玻璃等高硬度材料的理想原料。金剛石微粉的雜質(zhì)含量，主要來自其細(xì)化之前的金剛石原料。雜質(zhì)含量是測評金剛石微粉的一個重要指標(biāo)，直接影響后續(xù)工程應(yīng)用中的使用效果。不同的應(yīng)用領(lǐng)域，對其雜質(zhì)含量的高低也有所不同，例如將平均粒徑小于10μm以下金剛石微粉用于電鍍工具、線鋸等，其雜質(zhì)含量高的微粉極易結(jié)成堅硬結(jié)塊，不容易分散開來，嚴(yán)重影響金剛石工具及制品的質(zhì)量。氮雜質(zhì)作為人造金剛石的主要結(jié)構(gòu)缺陷，對晶體本身的光學(xué)、熱學(xué)、電學(xué)和機(jī)械性能有著重要影響

一般認(rèn)為，氧在人造金剛石中以微量金屬氧化物存在或以可替代方式固溶于人造金剛石中。測定人造金剛石中氧和氮的含量對人們了解氧和氮與人造金剛石性能之問的內(nèi)在關(guān)系有重要的現(xiàn)實(shí)意義和經(jīng)濟(jì)價值。惰氣熔融脈沖加熱法是目前測定材料中氧和氮常用的一種分析方法。采用脈沖加熱惰氣熔融-熱導(dǎo)法的氧氮?dú)浞治鰞xON-3000同時測定金剛石微粉中氧和氮，完夠滿足生產(chǎn)需求。

氧氮?dú)浞治鰞x用的助熔劑、氧化劑、吸收劑、浴料分別是什么？

助熔劑：在進(jìn)行固體無機(jī)材料中氣體分析時，起到降低試料熔點(diǎn)，減少干擾，優(yōu)化氣體提取效果作用的試劑。例如：鎳籃、錫片、鎳箔、鎳囊、錫囊等，分析不同的樣品我們可以選取不同的助熔劑。

氧化劑：氧化劑是氧化還原反應(yīng)里得到電子或有電子對偏向的物質(zhì)，也即由高變到低的價格的物質(zhì)。氧化劑從還原劑處得到電子自身被還原變成還原產(chǎn)物。

吸收劑：吸收是指某氣體通過一定量的試劑（氣體或固體）后，溶解或吸收于該試劑中，價格，有的與該試劑發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成新的物質(zhì)存在于試劑中。該試劑被稱為吸收劑。吸收劑的作用在于去除雜質(zhì)氣體、防止檢測后廢氣排空。

浴料：預(yù)先放置于坩堝中打底的助熔劑，可以是單元浴也可多元混合浴。使用浴料目的在于使高熔點(diǎn)金屬試樣與浴料組成的熔體形成低熔點(diǎn)合金，以降低提取氣體的溫度；另外還可增加熔體的流動性，使樣品中的氣體元素可同石墨碳充分接觸，降低活性金屬蒸汽分壓，防止固態(tài)碳化物形成，減少形成金屬蒸發(fā)膜對氣體的吸附損失；還可提高被提取氣體元素在熔池中的活度。