鋼研納克擬負(fù)責(zé)起草ICP-AES

鋼研納克擬負(fù)責(zé)起草《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》

儀器信息網(wǎng)訊 2014年10月28日，委決定發(fā)布通知對2014年第二批擬立項(xiàng)項(xiàng)目(見附件)公開征求意見。其中提出將制定《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國家推薦標(biāo)準(zhǔn)。主管部門為中國機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)，歸口單位為國工業(yè)過程測量和控制標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)會(huì)，起草單位為鋼研納克檢測技術(shù)有限公司，計(jì)劃完成時(shí)間為2016年。

《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》標(biāo)準(zhǔn)將規(guī)定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀的術(shù)語與縮略語、分類、要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則、標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存。

據(jù)介紹，制定該標(biāo)準(zhǔn)旨在提升我國ICP光譜儀的生產(chǎn)制造規(guī)范性，使儀器性能穩(wěn)定;通過規(guī)范生產(chǎn)提高ICP光譜儀生產(chǎn)企業(yè)準(zhǔn)入門檻，形成具有競爭力的企業(yè)。從而縮小國產(chǎn)儀器同國外儀器的性能差距，提高國產(chǎn)ICP光譜儀的市場占有率。對ICP光譜儀產(chǎn)業(yè)發(fā)展具有重要和積極的意義。

項(xiàng)目起草單位鋼研納克檢測技術(shù)有限公司研發(fā)生產(chǎn)電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀始于2006年，2009年10月，鋼研納克開發(fā)了單道掃描型ICP-AES Plasma 1000。2014年，鋼研納克推出了 Plasma2000型全譜電感耦合等離子體光譜儀，采用中階梯光柵光學(xué)結(jié)構(gòu)和科研級(jí)CCD檢測器實(shí)現(xiàn)全譜采集，該儀器是鋼研納克“國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項(xiàng)”成果。

鋼研納克：固態(tài)光源ICP，國產(chǎn)單道掃描ICP進(jìn)入固態(tài)光源時(shí)代

穩(wěn)健的全固態(tài)光源ICP光譜儀 鋼研納克 Plasma 1500

全固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小、，全自動(dòng)負(fù)載匹配，速度快、精度高，全固態(tài)光源ICP光譜儀能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及揮發(fā)性的測試，具有優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

垂直炬管的設(shè)計(jì)，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。

簡潔的炬管安裝定位設(shè)計(jì)，快速定位，icp光譜儀廠家，的位置重現(xiàn)。

具有低功率待機(jī)模式，待機(jī)時(shí)降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運(yùn)行，節(jié)約使用成本。

實(shí)時(shí)監(jiān)控儀器運(yùn)行參數(shù)，以太網(wǎng)及CAN工業(yè)現(xiàn)場總線，保障通訊可靠。

鋼研納克Plasma 1500單道掃描ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。

1 單道掃描ICP光譜儀采用大面積高刻線密度平面全息光柵，Czerny-Turner結(jié)構(gòu)光學(xué)系統(tǒng)，通光量大，分辨率高。

2 雙光柵設(shè)計(jì)，整個(gè)波長分布范圍內(nèi)均具有極高光譜分辨率，國產(chǎn)ICP光譜儀設(shè)計(jì)。

3 有效穩(wěn)定的固態(tài)射頻發(fā)生器，固態(tài)光源ICP光譜儀體積小巧，匹配速度快，確保儀器的精度較高運(yùn)行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

4 雙通道高靈敏PMT檢測器，寬動(dòng)態(tài)范圍信號(hào)處理技術(shù)，具有優(yōu)異的檢測能力。紫外光譜范圍內(nèi)自動(dòng)切換使用紫外PMT。

5 功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng)，簡化分析方法的開發(fā)過程，為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗(yàn)。