光譜干涉膜厚測(cè)試儀使用的是光譜干涉測(cè)量原理來測(cè)定薄膜的厚度。其工作基礎(chǔ)主要依賴于光的干涉現(xiàn)象，這是一種當(dāng)兩列或多列光波在空間相遇時(shí)，由于疊加而導(dǎo)致光強(qiáng)重新分布的物理現(xiàn)象。在光譜干涉膜厚測(cè)試儀中，當(dāng)一束光通過薄膜時(shí)，會(huì)發(fā)生干涉現(xiàn)象。薄膜的上下表面反射的光波會(huì)相互干擾，產(chǎn)生干涉條紋。這些干涉條紋的數(shù)量和寬度與薄膜的厚度有著密切的關(guān)系。通過精確測(cè)量干涉條紋的特征，如數(shù)量、寬度和分布等，可以推算出薄膜的厚度。此外，光譜干涉膜厚測(cè)試儀還利用了光的波動(dòng)特性。若干列光波在空?湎嚶鍪?，染J塹鈉德氏嗤⒄穸較螄嗤蟻轡徊詈愣?，那么它盟N突嵯嗷サ踴虻窒?，芯暽明暗相紲Z母繕嫣蹺啤Ｕ庵指繕嫘вξず癲飭刻峁┝絲贍堋?/p>總的來說，光譜干涉膜厚測(cè)試儀通過利用光的干涉原理和波動(dòng)特性，實(shí)現(xiàn)了對(duì)薄膜厚度的精確測(cè)量。這種測(cè)量方法具有非接觸、高精度、快速響應(yīng)等優(yōu)點(diǎn)，因此在材料科學(xué)、薄膜技術(shù)、光學(xué)工程等領(lǐng)域得到了廣泛?撓τ謾?/p>