半導(dǎo)體測(cè)厚儀，特別是像E+H Metrology的MX 30系列這樣的高精度設(shè)備，其測(cè)量厚度范圍廣泛，可以滿足多種不同尺寸的晶圓測(cè)量需求。這類測(cè)厚儀通常用于測(cè)量SIC、GaN、GaAS、InP等半導(dǎo)體晶圓的厚度。具體來(lái)說(shuō)，MX 30系列非接觸式單點(diǎn)晶圓測(cè)厚儀，例如MX 301型號(hào)，能夠測(cè)量直徑為50mm、75mm、100mm、150mm、200mm和300mm的晶圓。其厚度范圍根據(jù)晶圓直徑的不同而有所差異。例如，對(duì)于無(wú)框晶圓，其測(cè)量范圍可能是200\~1000μm或300\~1800μm；而對(duì)于鑲框晶圓，測(cè)量范圍可能達(dá)到0\~1100μm。測(cè)量精度方面，MX 30系列的厚度精度可以達(dá)到±0.5μm，分辨率高達(dá)10 nm，動(dòng)態(tài)范圍達(dá)800μm。這樣的精度保證了測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性和可靠性，滿足了半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)高精度測(cè)量的需求?？偟膩?lái)說(shuō)，半導(dǎo)體測(cè)厚儀能夠測(cè)量的厚度范圍廣泛，具體取決于晶圓的直徑和類型。同時(shí)，高精度的測(cè)量能力使得這類儀器在半導(dǎo)體制造和研發(fā)過(guò)程中發(fā)揮著不可或缺的作用。通過(guò)快速、準(zhǔn)確地測(cè)量晶圓厚度，半導(dǎo)體測(cè)厚儀有助于提高生產(chǎn)效率、保證產(chǎn)品質(zhì)量，并推動(dòng)半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展。