光刻膠膜厚儀的磁感應(yīng)測量原理主要基于磁通量的變化來測定光刻膠膜的厚度。具體來說，這種測量原理利用了從測頭經(jīng)過非鐵磁覆層（即光刻膠膜）而流入鐵磁基體的磁通的大小來確定覆層的厚度。在實(shí)際測量過程中，測頭靠近被測物體表面，產(chǎn)生一個(gè)磁場。當(dāng)測頭接觸到光刻膠膜時(shí)，磁場的一部分會(huì)穿過非鐵磁性的光刻膠膜，進(jìn)入下方的鐵磁基體。由于光刻膠膜的厚度不同，磁通量的大小也會(huì)有所變化。通過精確測量磁通量的大小，就可以推算出光刻膠膜的厚度。此外，磁感應(yīng)測量原理還可以測定與之對應(yīng)的磁阻的大小，這也可以用來表示覆層的厚度。磁阻是磁場在物質(zhì)中傳播時(shí)遇到的阻力，它與物質(zhì)的性質(zhì)以及磁場的強(qiáng)度有關(guān)。因此，通過測量磁阻的大小，也可以間接地得到光刻膠膜的厚度信息。這種磁感應(yīng)測量原理具有非接觸、高精度、快速測量等優(yōu)點(diǎn)，因此被廣泛應(yīng)用于光刻膠膜厚度的測量中。同時(shí)，隨著技術(shù)的不斷發(fā)展，光刻膠膜厚儀的測量精度和穩(wěn)定性也在不斷提高，為半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的發(fā)展提供了有力支持。總的來說，光刻膠膜厚儀的磁感應(yīng)測量原理是一種基于磁通量變化來測定光刻膠膜厚度的有效方法，具有廣泛的應(yīng)用前景。